Os anéis de gravação SIC da Semicera são projetados para aplicações de gravação de semicondutores de alto desempenho com durabilidade e precisão excepcionais. Feito de carboneto de silício de alta pureza (sic), este anel de gravação se destaca nos processos de gravura plasmática, gravação a seco e gravação de wafer. O processo de fabricação avançado da Semicera garante que esse anel ofereça excelente resistência ao desgaste e estabilidade térmica, mesmo nos ambientes mais exigentes. Estamos ansiosos para ser seu parceiro de longo prazo na China.
O Solid SiC Focus Ring da Semicera é um componente de ponta projetado para atender às demandas da fabricação avançada de semicondutores. Feito de alta pureza Carboneto de silício (sic), esse anel de foco é ideal para uma ampla gama de aplicações na indústria de semicondutores, especialmente em Processos CVD SIC, gravação de plasma e ICP RIE (gravação de íons reativos plasmáticos indutivamente acoplados). Conhecido por sua excepcional resistência ao desgaste, alta estabilidade térmica e pureza, garante desempenho duradouro em ambientes de alto estresse.
Em semicondutor wafer Processamento, anéis de foco SiC sólidos são cruciais para manter a gravação precisa durante as aplicações de gravura e gravação de wafer. O SIC Focus Ring ajuda a focar o plasma durante processos como operações de máquinas de gravação de plasma, tornando -o indispensável para a gravação de bolachas de silício. O material SiC sólido oferece resistência incomparável à erosão, garantindo a longevidade do seu equipamento e minimizando o tempo de inatividade, o que é essencial para manter a alta taxa de transferência na fabricação de semicondutores.
O Solid SiC Focus Ring da Semicera é projetado para suportar temperaturas extremas e produtos químicos agressivos comumente encontrados na indústria de semicondutores. É criado especificamente para uso em tarefas de alta precisão, como Revestimentos CVD SIC, onde pureza e durabilidade são fundamentais. Com excelente resistência ao choque térmico, este produto garante desempenho consistente e estável nas condições mais duras, incluindo a exposição a altas temperaturas durante wafer processos de gravação.
Nas aplicações de semicondutores, onde a precisão e a confiabilidade são fundamentais, o sólido SiC Focus Ring desempenha um papel fundamental no aumento da eficiência geral dos processos de gravação. Seu design robusto e de alto desempenho o torna a escolha perfeita para indústrias que exigem componentes de alta pureza que tenham desempenho em condições extremas. Seja usado em CVD SiC anel Aplicações ou como parte do processo de gravação de plasma, o SiC Focus Ring da Semicera ajuda a otimizar o desempenho do seu equipamento, oferecendo a longevidade e a confiabilidade que seus processos de produção exigem.
Principais recursos:
• Resistência ao desgaste superior e alta estabilidade térmica
• Material SiC sólido de alta pureza para vida útil prolongada
• Ideal para aplicações de gravação de plasma, ICP Rie e gravação a seco
• Perfeito para a gravação de wafer, especialmente em processos CVD SIC
• Desempenho confiável em ambientes extremos e altas temperaturas
• Garante precisão e eficiência na gravação de bolachas de silício
Aplicações:
• Processos CVD SIC na fabricação de semicondutores
• Os sistemas de gravação de plasma e ICP RIE
• Processos de gravação e gravura a seco
• Gravura e deposição em máquinas de gravação plasmática
• Componentes de precisão para anéis de bolas e anéis CVD SIC
