Soluções versáteis de feltro duro de grafite da Semicera para vários processos de fabricação de semicondutores

Apresentando as versáteis soluções de feltro rígido de grafite da Semicera, adaptadas para uma ampla gama de processos de fabricação de semicondutores. Com sua versatilidade e confiabilidade excepcionais, nossos produtos oferecem desempenho consistente, permitindo operações eficientes e precisas em diversos ambientes de produção.

Detalhes do produto

Nome do produto

Feltro de grafite

Composição Química

Fibra de carbono

Densidade aparente

0.12-0.14g/cm3

Conteúdo de carbono

>=99%

Resistência à tracção

0.14Mpa

Condutividade térmica (1150℃)

0,08~0,14W/mk

Cinzas

<=0.005%

Estresse esmagador

8-10N/cm

Grossura

1-10mm

Temperatura de processamento

2500(℃)

Densidade de volume (g/cm3): 0,22-0,28
Resistência à tração (Mpa): 2,5 (Deformação 5%)
Condutividade térmica (W/mk): 0,15-0,25(25) 0,40-0,45(1400)
Resistência Específica (Ohm.cm): 0,18-0,22
Conteúdo de carbono (%): ≥99
Conteúdo de cinzas (%): ≤0,6
Absorção de umidade (%): ≤1,6
Escala de purificação: alta pureza
Temperatura de processamento: 1450-2000

Campos de aplicações:
•Fornos a vácuo
•Fornos a gás inerte
•Tratamento térmico (endurecimento, carbonização, brasagem, etc.)
•Produção de fibra de carbono
•Produção de metal duro
•Aplicações de sinterização
•Produção técnica de cerâmica
•Acostamento CVD/PVD

Tamanho disponível:
Placa: 1500*1800(máx.) Espessura 20-200mm
Tambor redondo: 1500*2000(máx.) Espessuras 20-150mm
Tambor quadrado: 1500*1500*2000(Max) Espessura 60-120mm
Faixa de temperatura aplicável: 1250-2600

Feltro Rígido (2)

Feltro Rígido (1)

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Local de trabalho semicera Local de trabalho de Semicera 2 Máquina de equipamento Processamento CNN, limpeza química, revestimento CVD Nosso serviço

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