Portadores de wafer

Transportadores de wafers – Soluções seguras e eficientes de manuseio de wafers da Semicera, projetadas para proteger e transportar wafers semicondutores com máxima precisão e confiabilidade em ambientes de fabricação avançados.

Semicera apresenta o líder do setor Portadores de wafer , projetado para fornecer proteção superior e transporte contínuo de wafers semicondutores delicados em vários estágios do processo de fabricação. Nosso Portadores de wafer são meticulosamente projetados para atender às rigorosas demandas da fabricação moderna de semicondutores, garantindo que a integridade e a qualidade de seus wafers sejam sempre mantidas.

 

Principais recursos:

     • Construção com materiais premium: Fabricados com materiais de alta qualidade e resistentes à contaminação que garantem durabilidade e longevidade, tornando-os ideais para ambientes de salas limpas.

     • Projeto de precisão: Apresenta alinhamento preciso dos slots e mecanismos de fixação seguros para evitar deslizamentos e danos do wafer durante o manuseio e transporte.

     • Compatibilidade versátil: Acomoda uma ampla variedade de tamanhos e espessuras de wafer, proporcionando flexibilidade para diversas aplicações de semicondutores.

     • Manuseio ergonômico: O design leve e fácil de usar facilita a carga e descarga, aumentando a eficiência operacional e reduzindo o tempo de manuseio.

     • Opções personalizáveis: Oferece personalização para atender a requisitos específicos, incluindo escolha de materiais, ajustes de tamanho e etiquetagem para integração otimizada do fluxo de trabalho.

 

Aprimore seu processo de fabricação de semicondutores com o Semicera Portadores de wafer , a solução perfeita para proteger seus wafers contra contaminação e danos mecânicos. Confie em nosso compromisso com a qualidade e a inovação para fornecer produtos que não apenas atendam, mas superem os padrões do setor, garantindo que suas operações funcionem de maneira tranquila e eficiente.

Unid

Produção

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Fictício

Parâmetros de Cristal

Politipo

4H

Erro de orientação de superfície

<11-20 >4±0.15°

Parâmetros Elétricos

Dopante

Nitrogênio tipo n

Resistividade

0,015-0,025ohm·cm

Parâmetros Mecânicos

Diâmetro

150,0±0,2 mm

Grossura

350±25 µm

Orientação plana primária

[1-100]±5°

Comprimento plano primário

47,5±1,5mm

Apartamento secundário

Nenhum

TTV

≤5 µm

≤10 µm

≤15 µm

LTV

≤3 μm(5mm*5mm)

≤5 μm(5mm*5mm)

≤10 μm(5mm*5mm)

Arco

-15μm ~ 15μm

-35μm ~ 35μm

-45μm ~ 45μm

Urdidura

≤35 µm

≤45 µm

≤55 µm

Rugosidade frontal (Si-face) (AFM)

Ra≤0,2nm (5μm*5μm)

Estrutura

Densidade de microtubos

&lt;1 ea/cm2

&lt;10 ea/cm2

&lt;15 ea/cm2

Impurezas metálicas

≤5E10atoms/cm2

N / D

DBP

≤1500 ea/cm2

≤3000 ea/cm2

N / D

TSD

≤500 ea/cm2

≤1000 ea/cm2

N / D

Qualidade frontal

Frente

Si

Acabamento de superfície

CMP de face Si

Partículas

≤60ea/wafer (tamanho≥0,3μm)

N / D

Arranhões

≤5ea/mm. Comprimento cumulativo ≤Diâmetro

Comprimento cumulativo≤2*Diâmetro

N / D

Casca de laranja/caroços/manchas/estrias/rachaduras/contaminação

Nenhum

N / D

Lascas/reentrâncias/fraturas/placas sextavadas nas bordas

Nenhum

Áreas politípicas

Nenhum

Área acumulada≤20%

Área acumulada≤30%

Marcação a laser frontal

Nenhum

Qualidade traseira

Acabamento traseiro

CMP face C

Arranhões

≤5ea/mm, comprimento cumulativo≤2*Diâmetro

N / D

Defeitos traseiros (lascas/recortes nas bordas)

Nenhum

Rugosidade nas costas

Ra≤0,2nm (5μm*5μm)

Marcação a laser traseira

1 mm (da borda superior)

Borda

Borda

Chanfro

Embalagem

Embalagem

Epi-pronto com embalagem a vácuo

Embalagem cassete multi-wafer

*Notas: “NA” significa sem solicitação. Itens não mencionados podem referir-se ao SEMI-STD.

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