Revestimento SiC de alta temperatura com filtro de wafer de grafite para crescimento epitaxial MOCVD

Aplicações de Produtos

1. Semiconductor Manufacturing

   • Ideal para deposição epitaxial de semicondutores compostos GaN, SiC e III-V.

   • Crítico para produzir LEDs de alto desempenho, dispositivos RF e eletrônica de energia.

2. Investigação e Desenvolvimento

   • Confiado em laboratórios para estudos avançados de materiais e prototipagem de semicondutores de última geração.

3. MOCVD industrial Sistemas

   • Compatível com o equipamento MOCVD líder para produção em massa de componentes optoeletrônicos.

Key Advantages

1. Durabilidade Inigualável

   • O revestimento SiC aumenta a resistência ao choque térmico, à corrosão química e ao desgaste mecânico, prolongando a vida útil por 3x em comparação com os tradicionais susceptores de grafite.

2. Uniformidade térmica superior

   • Projetado para ± 1,5% de uniformidade da temperatura na superfície da wafer, minimizando defeitos em camadas depositadas.

3. High-Temperature Stability

   • Opera perfeitamente a temperaturas de até 1.800 ° C, mantendo a integridade estrutural em ambientes mocvd severos.

4. Cost Efficiency

   • Reduz os custos de inatividade e substituição graças à durabilidade prolongada e desempenho consistente.

Características do produto

1. Composição de Materiais Premium

   • Combina grafite isostática de alta pureza com um revestimento SiC denso e isento de defeitos para ótima resistência térmica e química.

2. Desenhos Personalizáveis

   • Disponível em geometrias personalizadas (por exemplo, panqueca, vertical, horizontal) para caber diversas configurações de reator.

3. Precision Engineering

   • O acabamento superficial ultra-suave (<0,5 µm de AR) garante contaminação mínima de partículas durante a deposição.

4. Resposta térmica rápida

   • O design de baixa massa térmica acelera os ciclos de aquecimento/resfriamento, aumentando a eficiência do processo.

Por que escolher Semicera?

• Perícia da indústria: Apoiado por mais de 15 anos de experiência em soluções cerâmicas avançadas para aplicações de semicondutores.

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