Revestimento SiC de alta temperatura com filtro de wafer de grafite para crescimento epitaxial MOCVD

SiC Coating SiC Graphite Wafer Susceptor é uma solução premium para processos MOCVD (deposição de vapor químico metal-orgânico), projetado para proporcionar estabilidade térmica excepcional, resistência à corrosão e longevidade. Fabricado a partir de carboneto de silício de alta pureza (SiC) e grafite avançado, este susceptor garante uma distribuição de calor uniforme e desempenho confiável em ambientes extremos, permitindo um crescimento epitaxial impecável de materiais semicondutores como GaN, SiC e LEDs.

Aplicações de Produtos

  1. Semiconductor Manufacturing

    • Ideal para deposição epitaxial de semicondutores compostos GaN, SiC e III-V.

    • Crítico para produzir LEDs de alto desempenho, dispositivos RF e eletrônica de energia.

  2. Investigação e Desenvolvimento

    • Confiado em laboratórios para estudos avançados de materiais e prototipagem de semicondutores de última geração.

  3. MOCVD industrial Sistemas

    • Compatível com o equipamento MOCVD líder para produção em massa de componentes optoeletrônicos.


Key Advantages

  1. Durabilidade Inigualável

    • O revestimento SiC aumenta a resistência ao choque térmico, à corrosão química e ao desgaste mecânico, prolongando a vida útil por 3x em comparação com os tradicionais susceptores de grafite.

  2. Uniformidade térmica superior

    • Projetado para a uniformidade de temperatura ±1,5% através da superfície da wafer, minimizando defeitos em camadas depositadas.

  3. High-Temperature Stability

    • Funciona perfeitamente a temperaturas até 1.800°C, mantendo a integridade estrutural em ambientes MOCVD severos.

  4. Cost Efficiency

    • Reduz os custos de inatividade e substituição graças à durabilidade prolongada e desempenho consistente.


Características do produto

  1. Composição de Materiais Premium

    • Combina grafite isostática de alta pureza com um revestimento SiC denso e isento de defeitos para ótima resistência térmica e química.

  2. Desenhos Personalizáveis

    • Disponível em geometrias personalizadas (por exemplo, panqueca, vertical, horizontal) para caber diversas configurações de reator.

  3. Precision Engineering

    • O acabamento superficial ultra-suave (<0,5 μm Ra) garante a mínima contaminação das partículas durante a deposição.

  4. Resposta térmica rápida

    • O design de baixa massa térmica acelera os ciclos de aquecimento/resfriamento, aumentando a eficiência do processo.


Por que escolher Semicera?

  • Perícia da indústria: Apoiado por mais de 15 anos de experiência em soluções cerâmicas avançadas para aplicações de semicondutores.

  • Garantia de qualidade: Testes rigorosos sob protocolos certificados pela ISO garantem consistência de desempenho.

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