Пластины GaAs|Эпи пластины GaAs| Субстраты арсенида галлия

Semicera Energy Technology Co., Ltd. — ведущий поставщик, специализирующийся на пластинах и современных полупроводниковых расходных материалах. Мы стремимся предоставлять высококачественную, надежную и инновационную продукцию для производства полупроводников, фотоэлектрической промышленности и других смежных областей. Наша линейка продуктов включает в себя графитовые изделия с покрытием SiC/TaC и керамические изделия, включающие различные материалы, такие как карбид кремния, нитрид кремния, оксид алюминия и т. д. В настоящее время мы являемся единственным производителем, обеспечивающим чистоту покрытия SiC 99,9999% и рекристаллизованного карбида кремния 99,9%. Максимальная длина покрытия SiC, которую мы можем сделать, составляет 2640 мм.

GaAs-substrates(1)

Подложки GaAs делятся на проводящие и полуизолирующие, которые широко используются в лазерах (LD), полупроводниковых светодиодах (LED), лазерах ближнего инфракрасного диапазона, мощных лазерах с квантовыми ямами и высокоэффективных солнечных панелях. Чипы HEMT и HBT для радиолокационных, микроволновых, миллиметровых или сверхвысокоскоростных компьютеров и оптической связи; Радиочастотные устройства для беспроводной связи, 4G, 5G, спутниковой связи, WLAN.

В последнее время подложки из арсенида галлия также добились большого прогресса в производстве мини-светодиодов, микро-светодиодов и красных светодиодов и широко используются в носимых устройствах AR/VR.

Диаметр
Диаметр пластины

50 мм | 75 мм | 100 мм | 150 мм

Метод роста
модель роста

ЛЭК Метод прямого вытягивания жидкого уплотнения
ВГФ метод затвердевания с вертикальным градиентом

Толщина пластины
толщина

350 мкм ~ 625 мкм

Ориентация
Кристаллическая ориентация

<100> / <111> / <110> или другие

Проводящий тип
Тип проводимости

П-тип / Н-тип / Полуизолирующий

Тип/Допация
присадка

Zn/Si/нелегированный

Концентрация носителей
концентрация носителей

1Э17 ~ 5Э19 см-3

Сопротивление при комнатной температуре
удельное сопротивление при комнатной температуре (Ом•см)

≥1E7 для СИ

Мобильность
мобильность (см2/В·сек)

≥4000

EPD (Плотность ямы травления)
Плотность очагов коррозии

100~1E5

ТТВ
Общее изменение толщины

≤ 10 мкм

Лук/Деформация
Коробление

≤ 20 мкм

Поверхностная обработка
поверхность

ЦСП/ССП

Лазерная метка
лазерный код

 

Оценка
оценка

Полированный Epi/механический класс

Новостная рассылка

С нетерпением ждем вашего контакта с нами